光刻机需要工作在超高无尘环境下，刚刚组装完成的测试样机正在无尘车间内安装调试。刘焱换了一身白色防尘服，戴上防尘帽，通过风淋间进入无尘车间。
此时是上午十点左右，处于每天的早班时间，晶圆工厂的四条芯片生产线正在全力运作，数千名工人，正在生产线上，有条不紊的工作。走过生产区域，进入测试区域，以姜安平为首的几十名研究人员，正围在一台一人多高的设备，做最后的调试，旁边还有几名维创电子公司的高管站在那里围观。
刘焱凑上前去，朝研发二部部长乌光辉问道：
“这台就是光刻机研发实验室制作出的第一台光刻机吗？什么时候能开始光刻测试？”
听到有人提问，阳威力、金小雅等人同时转头看过来，见是老板刘焱，纷纷打招呼问好，乌光辉出声给刘焱解释道：
“对，就是这台机器，昨天组装完成之后，第一时间就从研发大楼搬运到了无尘车间，经过一天一夜的安装调试，现在已经差不多可以开始了。”
刘焱满意的点点头，围着光刻机转了一圈，这台设备为全封闭结构，就像一个四四方方的铁皮文件柜，外壳喷涂成了乳白色，左右两侧，设置有硅晶圆入口和出口，靠外一侧安装着一个控制面板和一台大屁股显示器。
刘焱有些疑惑的问道：
“看外表，我们这台光刻机似乎和j能、n康的光刻机都不太一样，这是对外壳进行了优化吗？”
乌光辉摇摇头之后说道：
“我们不光优化了外壳，同时也优化了部分内部结构。
老板你提供的资料里不是有一部分0.5微米光刻机的预研资料吗，姜教授他们研发一微米光刻机的时候，参考了0.5微米光刻机的内部结构，对设计图进行了一些更改优化。
从理论上来说，这些优化对晶圆的加工速度和加工精度，应该都有所提升，实际情况如何，还需要测试过后才知道。”
姜安平等人又忙活了半个多小时，光刻机终于调试完成，将提前准备好的掩膜版固定到掩膜版工作台上。阳威力通过对讲机沟通，让一位名为柏巧玲的女工，送来了几十片已经涂好光刻胶的硅晶圆。
姜安平亲自动手，将硅晶圆安置到光刻机晶圆入口处的支架上，然后按下操作面板上的启动按钮。
光刻机内部传出细微的机械转动声音，一张硅晶圆被机械臂送进光刻机内部，在深色玻璃观察窗上，亮起一抹深邃的紫色光芒，开始对硅晶圆进行加工。
见状，刘焱出声询问道：
“这台光刻机使用的是哪种光源，是高压汞灯产生的436nm-line和365nmi-line，还是248nm的kf准分子激光作为光源？”
乌光辉回答道：
“现在使用的是高压汞灯产生的365nmi-line作为光刻光源，理论上，这种光源能一直将光刻机的加工精度提升到0.35微米，作为未来一两代光刻机的光源足够使用了。